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        應用分享 | 氬離子設備 (XPS、PHI710、TOF-SIMS)

        更新時間:2024-11-13點擊次數:612

        氬離子設備

        對于表面分析,樣品表面極易被污染。

        為了清潔被污染的固體表面,在能譜分析中,常常利用離子設備發出的離子束對樣品表面進行濺射剝離,以清潔表面。

        利用離子設備發出的離子束定量地剝離一定厚度的表面層,然后再分析表面成分,這樣就可以獲得元素成分沿深度方向的分布圖。

        同時,離子設備也兼具中和樣品表面荷電的作用。

        一、氬離子設備原理圖

        ▲ 圖1 氬離子設備原理圖

        二、氬離子設備實圖

        ▲圖2 氬離子設備圖

        三、氬離子設備主要作用

        > 清潔(樣品表面被污染)

        清潔被污染的樣品表面,利用離子設備發出的離子束對樣品表面進行濺射剝離,以清潔表面

        > 濺射(對樣品進行深度剖析)

        利用離子設備發出的離子束定量地剝離一定厚度的表面層,然后再分析表面成分,以獲得元素成分沿樣品深度方向的分布

        > 荷電中和

        中和樣品表面的荷電 

        四、氬離子設備多種參數設定

        根據樣品需要設置多種參數選擇性

         

         ▲圖3 氬離子設備多種參數選擇

        五、不同設備儀器的氬離子設備

        ▲圖4 氬離子設備在XPS上 

         

         ▲圖5 氬離子設備在PHI710上 

        ▲圖6 氬離子設備在TOF-SIMS上

        六、簡易便捷的氬離子設備燈絲實體圖

        ▲ 圖7 XPS的氬離子設備燈絲 

        ▲ 圖8 PHI710的氬離子設備燈絲 

        ▲圖9 TOF-SIMS的氬離子設備燈絲

        結語

        氬離子設備已廣泛應用在各表面分析設備上,且可以根據樣品進行參數的設定選擇,是進行表面分析不能缺少的構件。

        -轉載于《PHI表面分析 UPN》公眾號

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